金融界2025年4月28日消息，国家知识产权局信息显示，ASML荷兰有限公司申请一项名为“用于计算特征的建模方法”的专利，公开号CN119882355A，申请日期为2020年7月。
专利摘要显示，本文描述一种用于确定用来预测与被图案化的当前衬底相关联的套刻精度数据的模型的方法。该方法涉及：获得（i）与当前衬底的一个或多个先前层和/或当前层相关联的第一数据的集合、（ii）包括与一个或多个先前衬底相关联的套刻精度量测数据的第二数据的集合、以及（iii）与当前衬底的当前层相关联的未被校正的测得的套刻精度数据；以及基于（i）第一数据的集合、（ii）第二数据的集合及（iii）未被校正的测得的套刻精度数据，确定与模型相关联的一组模型参数的值，使得模型预测用于当前衬底的套刻精度数据，其中，将所述值确定为使得成本函数最小化，成本函数包括预测的数据与未被校正的测得的套刻精度数据之间的差。
本文源自：金融界
作者：情报员